Sputtrande mål

Zirkonium roterande förstoftningsmål

Zirconium Rotary Sputtering Targets Beskrivning Zirconium Rotary Sputtering Targets är gjorda av högrent zirkoniummaterial efter en serie bearbetning, med en specifik hög renhet

Lägg till förfrågan
Zirkonium 702 Planar Target

Zirconium 702 Planar Target Description Zirkonium är ett metalliskt element med utmärkt korrosionsbeständighet, hög smältpunkt och goda mekaniska egenskaper, vilket gör det användbart i en mängd

Lägg till förfrågan
Zirkonium 702 runda mål

Zirkonium 702 Round Target Beskrivning Zirkonium är en glänsande grå-vit stark övergångsmetall som ofta används inom kärnkraftsindustrin och flygindustrin. Zirconium 702 Round Target är ofta gjord av

Lägg till förfrågan
99,95 % zirkoniumsputtermål

99,95% Zirkonium Sputter Mål Beskrivning Magnetron sputtering är en ny fysisk ångbeläggningsmetod, som använder elektronkanonsystem för att avge elektroner och fokusera på materialet som ska

Lägg till förfrågan
Titanmål med hög renhet

High Purity Titanium Targets Beskrivning Titan är en paramagnetisk eldfast metall med stark seghet och hög hållfasthet, speciellt i en syrefri miljö. För mål gäller att ju högre metallens kemiska

Lägg till förfrågan
Högrent kromsputtermål

High Purity Chromium Sputter Målbeskrivning Krom är en stålgrå, blank, hård och spröd övergångsmetall. High Purity Chromium Sputter Target tillverkas vanligtvis med vakuumsmältning eller het

Lägg till förfrågan
99,5 % borförstoftningsmål

99,5 % borförstoftningsmål Beskrivning Beläggningsmålet är en förstoftningskälla som bildar olika funktionella filmer på substratet genom förstoftning under lämpliga processförhållanden genom

Lägg till förfrågan
Molybden (Mo) Sputtering Targets

Molybden (Mo) Sputtering Mål Beskrivning Som en banbrytande tunnfilmsmaterialframställningsteknik har sputtering två egenskaper: hög hastighet och ultra-låg temperatur. Molybden (Mo) Sputtering

Lägg till förfrågan
Titanmetallmål

Titanium Metal Target Beskrivning Titanium Metal Target tillverkas huvudsakligen med elektronstrålekylningsmetoden. Den har hög renhet, hög specifik hållfasthet, god seghet i en syrefri miljö, stark

Lägg till förfrågan
Förstoftningsmål för nickelmetall

Nickelmetallförstoftningsmål Beskrivning Inom industrin används nickel vanligtvis vid legeringsframställning, batteriproduktion och som katalysator. Speciellt inom området målmaterial används nickel

Lägg till förfrågan
Sputtermål för krommetall

Krommetallsputtermål Beskrivning Krom har en hög smältpunkt och bra oxidationsbeständighet, vilket gör att krommålet förblir stabilt i högtemperaturmiljöer. Dessutom ger elektronstråleavsättningen

Lägg till förfrågan
TiAl Titanium Legering Sputtering Target

TiAl Titanium Legering Sputtering Mål Beskrivning Sputtering target hänvisar till det råmaterial som används i sputtering deponeringsprocessen. Det hänvisar till den process i vilken atomer stöts ut

Lägg till förfrågan

Vi är välkända som en av de ledande tillverkarna och leverantörerna av sputtermål i Kina. Om du ska köpa högkvalitativt sputtermål med konkurrenskraftigt pris, välkommen att få offert från vår fabrik. Skräddarsydd service är också tillgänglig.

(0/10)