Metall Sputtering Mål

Titanium aluminium sputtering mål

Titanium Aluminium Sputtering Target Beskrivning Sputtering-målet hänvisar till råmaterialet som används i sputtering-avsättningsprocessen, vilket hänvisar till processen att spruta ut atomer från

Lägg till förfrågan
Iridiummål

Material:Ir. Renhet:Större än eller lika med 99,99 %(4N). Densitet:22,56 g/cm³. Diameter:Φ Större än eller lika med 20 mm. Tjocklek:1-15 mm eller anpassad. Bredd:10-150 mm. Längd:10-300 mm.

Lägg till förfrågan
Silikonsputtermål i aluminium

Aluminium Silicon Sputter Target är ett sputtermål av legerat material som består av aluminium och kisel, som främst används i processer för fysisk ångavsättning (PVD). Genom tekniker som

Lägg till förfrågan
Bor B -mål

Boron B Target is a high-purity metal target material used in PVD or CVD processes. It is made of boron as the main component and is made into a dense block through powder metallurgy or hot pressing.

Lägg till förfrågan
Platina metallmål

Platinummetallmål är ett funktionellt material tillverkat av platina med hög renhet (PT) som ett råmaterial, med en hög smältpunkt, stark korrosionsbeständighet, utmärkt elektrisk och

Lägg till förfrågan
Koboltkrom volframmål

Koboltkrom -volframmål är en typ av metallmål som används för sputteringsbeläggning. Den är gjord av kobolt, krom, volfram och andra metallelement med utmärkt slitstyrka och korrosionsbeständighet

Lägg till förfrågan
99,99% renhet nickel ni sputteringsmål

99,99% renhet Nickel Ni -sputteringsmål är sputteringsmål gjorda av nickelmaterial med hög renhet med god elektrisk konduktivitet, värmeledningsförmåga, korrosionsbeständighet och oxidationsmotstånd.

Lägg till förfrågan
Aluminium kisel (AL/SI) sputteringsmål

Aluminium kisel (AL/SI) sputteringsmål är legeringsmål gjorda av aluminium och kisel. De kan motstå höga temperaturer och jonbombardement under sputtering för att erhålla enhetliga, täta och

Lägg till förfrågan
Aluminium kisel rund mål

Aluminium kiselrundmål är ett legeringsmål tillverkat av högrenad aluminiumkiselmaterial genom precisionsprocesseringsteknik. Det spelar en viktig roll inom många områden som halvledare,

Lägg till förfrågan
ZR702 Zirkoniummål

ZR702 Zirconium Target är ett rundt mål med hög renhet gjord av zirkonium, som har hög styrka, god kemisk stabilitet, stark elektrisk konduktivitet och värmeledningsförmåga, etc. Det kan användas för

Lägg till förfrågan
99,95% rena NB2O5 -mål

99,95% Pure NB2O5-mål är sputteringskällor som bildar olika funktionella filmer på substrat genom magnetronsputtering, multi-arcjonplätering eller andra typer av beläggningssystem under lämpliga

Lägg till förfrågan
Zirkoniummål

Zirconium Target can be sputtered to produce a higher purity and more ornamental decorative coating, mainly used in household products, household appliances, photoelectric devices, semiconductor

Lägg till förfrågan

Vi är välkända som en av de ledande tillverkarna och leverantörerna av metallsputtermål i Kina. Om du ska köpa högkvalitativt metallsputtermål med konkurrenskraftigt pris, välkommen att få offert från vår fabrik. Skräddarsydd service är också tillgänglig.

(0/10)