Högrent kromsputtermål

High Purity Chromium Sputter Målbeskrivning

Krom är en stålgrå, blank, hård och spröd övergångsmetall. High Purity Chromium Sputter Target tillverkas vanligtvis med vakuumsmältning eller het isostatisk pressning. Det har egenskaperna hög smältpunkt, korrosionsbeständighet, hög temperaturbeständighet, slagtålighet, slitstyrka, hög hållfasthet och hårdhet, och kan sputteras med hög renhet och vidhäftning. Högkvalitativ film med höga egenskaper, god likformighet, utmärkt korrosionsbeständighet, slitstyrka och hållbarhet. Inom vakuumbearbetningsindustrin kan High Purity Chromium Sputter Target producera en relativt stabil kromjonstråle, vilket gör att den kan användas för att göra substrat eller ytbeläggningar för att skydda substrat eller för att göra vissa industrier som särskilt kräver hög oxidationsbeständighet. Komponent. High Purity Chromium Sputter Target används vanligtvis i PVD- och CVD-processer för att producera dekorativa beläggningar, korrosionsbeständiga beläggningar och reflekterande beläggningar. Den kan också plåta krombeläggningar i olika färger genom att justera processparametrar.

Specifikationer för högrent kromsputtermål:

Högrent kromsputtermålbilder:

Populära Taggar: högrent kromsputtermål, leverantörer, tillverkare, fabrik, anpassade, grossist, pris, offert, till salu