Sputtrande mål

Titan aluminiumlegering PVD mål

Titan Aluminiumlegering PVD-mål Beskrivning Beläggningsmålet är en förstoftningskälla som bildar olika funktionella filmer på substratet genom förstoftning under lämpliga processförhållanden genom

Lägg till förfrågan
Borrunda sputtermål

Boron Round Sputter Target Beskrivning Boron Round Sputter Target är ett material som används för filmberedning. Den är gjord av boridmaterial genom pulvermetallurgi (pressning av metallpulver under

Lägg till förfrågan
Krom Planar Sputtering Mål

Krom Planar Sputtering Target Egenskaper och tillämpning Det ursprungliga kromelementet måste renas genom en serie processer såsom högtemperatursmältning, raffinering och elektrolys, och sedan

Lägg till förfrågan
99,95 procent kromförstoftningsmål

99,95 procent kromförstoftningsmål Egenskaper och användning 99,95 procent kromförstoftningsmål är ett metallmål med hög renhet, som kan användas för att belägga olika material med utmärkta

Lägg till förfrågan
Kromförstoftande runda mål

Kromförstoftning Runda mål Beskrivning Krommetall används främst som råmaterial för tillverkning av olika legeringar. Den industriella produktionen av krommetall antar huvudsakligen två metoder:

Lägg till förfrågan
Titan kromlegering runda mål

Titanium kromlegering runda mål kan användas för att göra substrat eller ytbeläggningar, och kan användas inom området mekaniska knivar, bil- och motorcykeldekoration, IT-produktskal och

Lägg till förfrågan
Titan krom Planar Target

Titanium Chromium Planar Target är mycket lämplig för sputtring av korrosionsbeständiga och slitstarka beläggningar, som kan skydda utrustning som arbetar i mycket korrosiva kemiska miljöer och

Lägg till förfrågan
Sputtermål i titan aluminium

Titanium Aluminium Sputter Targets har de utmärkta egenskaperna hos metalltitan och metallaluminium, såsom hög duktilitet, hög slitstyrka, utmärkt elektrisk och termisk ledningsförmåga, optimal

Lägg till förfrågan
Titan-aluminiummål

Titan-aluminiummål kan förbättra hårdheten och livslängden för skärverktyg och används ofta i beläggningar av hårdvaruverktyg, dekorativa beläggningar, plattskärmsbeläggningar, PVD- och

Lägg till förfrågan
Titan Ti Sputtering Target

Titanium Ti Sputtering Target används ofta för sputtringsavsättning av ren titanfilm eller reaktiv sputtringsavsättning av TiN-film, huvudsakligen använt som ett diffusionsbarriärskikt sammankopplat

Lägg till förfrågan
99,99 procent rent titanmål

99,99 procent Pure Titanium Targets har inte bara fördelarna med hög renhet, god slitstyrka, lång livslängd och hög beläggningskvalitet, utan inkluderar också alla de utmärkta egenskaperna hos titan,

Lägg till förfrågan
Titan-kisel sputtering mål

Titanium-Silicon Sputtering Targets Beskrivning Titanium-Silicon Sputtering Targets kan ge nitridhårda materialskikt med utmärkta egenskaper, eftersom kisel garanterar hög oxidationsbeständighet,

Lägg till förfrågan

Vi är välkända som en av de ledande tillverkarna och leverantörerna av sputtermål i Kina. Om du ska köpa högkvalitativt sputtermål med konkurrenskraftigt pris, välkommen att få offert från vår fabrik. Skräddarsydd service är också tillgänglig.

(0/10)