Volfram Titan Sputtering Mål

Volfram Titan Sputtering Mål

FANMETAL leverera W-Ti legering volfram aluminium sputtering mål som används i PVD beläggningssystem inom halvledare . Ti innehåll 10%~ 50% , normalt levererar vi WTi 90:10 kompositionen . Vi tillhandahåller också andra metaller mål och avdunstning material till hög renhet 99.9999%, ädelmetall mål (Au, Ag , Pt) , mål bonding service, degelfoder (koppar, molybden, volfram etc. )

Volfram Titanium Sputtering Målprocess:

HP hot press sintering, högt tryck och hög temperatur isolering, producera god densitet volfram titanlegering. Densiteten når över 99,5 %, precisionsbearbetning, god densitet, god renhet och god ytfinish.

Den främsta anledningen till att halvledarchipet väljer nytt mål volfram titanlegeringsbarriärskikt och som diffusionsbindningsskikt är legeringen med god yt vidhäftningsförmåga och utmärkta värmeavledningsegenskaper. På detta sätt kommer den beredda produkten att ha en högre omfattande prestanda.

Volfram Titanium Sputtering Mål Bild:

Volfram Titanium Sputtering Target är en legering som har fördelarna med övergångsmetaller volfram och titan. Den har högre densitet och renhet, bättre korrosionsbeständighet och mindre volymexpansionseffekter, vilket effektivt kan minska antalet förändringar i tillverkningsprocessen. Bildandet av medelstora partiklar kan framgångsrikt förbereda högkvalitativa filmer

Populära Taggar: Volfram Titanium Sputtering Target, leverantörer, tillverkare, fabrik, anpassad, grossist, pris, offert, till salu