Molybden Sputtering Target

Molybden Sputtering Target Beskrivning

Molybden Sputtering Target är ett mycket miljövänligt sputtermaterial. Dess renhet är i allmänhet över 99,95 procent. Den har hög hållfasthet, god elektrisk och termisk ledningsförmåga, låg värmeutvidgningskoefficient, enhetlig inre struktur, bra korrosionsbeständighet och hållbarhet. Starka och andra utmärkta egenskaper. Ytan på Molybden Sputtering Targets kan sägas vara ljus, polerad och rullad, och formen kan vara rund, rektangulär och rörformig. Molybden Sputtering Targets används ofta inom vakuumbeläggningsindustrin, flygindustrin, marin fordonsindustri, instrumenteringsindustrin och solcellsindustrin.

Vad är ett sputtering-mål?

Sputtering Targets utvecklades på 1900-talet som en tunnfilmsavsättningsteknik, en uråldrig process av fysisk ångavsättningsmekanism, men har också många användningsområden inom modern teknik och tillverkning. Processen börjar med att substratet (eller annat föremål som ska beläggas) placeras i en vakuumkammare som innehåller två magneter. Efter att en kontrollerad gas, såsom argon, har införts i kammaren, dras atomerna från substratet med en magnet. Dessa atomer kolliderar sedan med varandra i ett gasformigt tillstånd, kondenserar till en plasma och torkar till en tunn film på ett substrat, och bildar så småningom en tunn, hållbar beläggning lämplig för beläggning på en mängd olika enheter. Metallens kemiska renhet är nyckeln till tillverkningen av sputtermål. Ju högre renhet, desto bättre prestanda för den avsatta filmen.

Molybden Sputtering TargetSpecifikationer:

Molybden Sputtering Målbilder:

Populära Taggar: molybdenförstoftningsmål, leverantörer, tillverkare, fabrik, anpassade, grossist, pris, offert, till salu