Aluminium kisel (AL/SI) sputteringsmål

Aluminium kisel (AL/SI) sputteringsmål Beskrivning

Materialval och bearbetning

Vi kan använda pulvermetallurgi, gjutning eller het pressning för produktion. Den inre strukturen för målet som gjordes av pulvermetallurgi är enhetlig, vilket är mycket lämpligt för produktion av legeringsmål. Gjutning är lämplig för storskalig produktion av hög renhetsmål. Alla processer måste vara ytbehandlade och testas fullt ut för kvalitet efter avslutad.

Egenskaper

Hög renhet, hög densitet, högdimensionell noggrannhet, god bearbetningsprestanda och hög beläggningskvalitet.

Utmärkt korrosionsmotstånd, hög stabilitetsmotstånd, slagmotstånd, trötthetsmotstånd och lång livslängd.

Utmärkt elektrisk och värmeledningsförmåga kan överföra strömmen med hög hastighet, god värmeavledningseffekt.

Resistent mot kärnkraftstrålning, miljövänlig och giftfri, hög återvinningsgrad, Gand OOD ekonomiska fördelar.

Ansökan

Aluminium kisel (AL/SI) sputteringsmål används huvudsakligen i halvledartillverkning, optoelektronisk skärmteknologi, solceller, magnetlagringsmedier, dekorativa och slitstoppande beläggningar, aerospace eller medicinsk utrustning, etc. De kan spruta transparent ledande filmer, sköldskikt, anti-achch-beläggningar, reflekterande och reflekterande och anti-antio Högglansdekorativa beläggningar, antikorrosionsbeläggningar, högtemperaturbeständiga beläggningar, biokompatibla filmer och andra metallfilmer eller beläggningar med olika egenskaper för att uppfylla applikationskraven.

Fanmetal kan ge kunderna högkvalitativaZirkoniummål, Krommål, Titanaluminiummål, Röntgenrörets volframmål, Titan Ti Sputtering Targetoch andra mål med hög renhet och legering och kan också ge anpassad produktion.

Aluminiumkisel (AL/SI) SPUTNING MÅL SPECIFIKATIONER:

Aluminium Silicon (AL/SI) Sputtering Tarchar Bilder

Populära Taggar: Aluminium Silicon (AL/SI) Sputtering Mål, leverantörer, tillverkare, fabrik, anpassad, grossist, pris, offert, till salu