Zirkoniumförstoftningsmål med hög renhet

Hög renhet Zirkonium Sputtering Targets Beskrivning

Zirkoniumsputteringsmål med hög renhet använder huvudsakligen zirkoniumsvamp och zirkoniumkristallstav som råmaterial. Även om kostnaden för kristallstav är högre än för zirkoniumsvamp, har den mindre föroreningar och hög renhet. Det är ett idealiskt material för tillverkning av sputtermål. Detta beror på att materialets renhet är nära relaterad till kvaliteten på den sputtrade filmbeläggningen. Ju högre materialets renhet, desto längre vidhäftning, slitstyrka och livslängd för beläggningen, och desto starkare skyddseffekt på produkten. Jämfört med titanmål har högrenade zirkoniumsputtermål högre korrosionsbeständighet, bättre duktilitet och icke-magnetiska egenskaper och kan gjutas i olika former (rund, platta eller rör). Vi kan leverera en rad zirkoniummetallprodukter med konkurrenskraftiga priser och ledtider, som t.exZirkonium Bar,Zirkoniumdegeloch Zirconium 702 Tube, etc. Vid behov, vänligen kontakta oss via e-post, vi kommer att göra vårt bästa för att möta dina behov.

Specifikationer för högrent zirkoniumförstoftningsmål:

Högren Zirkonium Sputtering Targets Bilder:

Populära Taggar: hög renhet zirkonium sputtering mål, leverantörer, tillverkare, fabrik, anpassade, grossist, pris, offert, till salu