Metallförstoftningsmål används huvudsakligen inom elektronik- och informationsindustrin, såsom integrerade kretsar, informationslagring, LCD-skärmar, laserminnen, elektroniska styranordningar, etc. De kan också användas i stor utsträckning inom området glasbeläggning, slitstarkt verktyg tillverknings- och högtemperaturbearbetningsindustrier. , avancerade dekorativa förnödenheter och andra industrier. FANMETAL har många års erfarenhet av att producera icke-järnmetallprodukter och har även avancerad bearbetningsutrustning. Det kan förse kunder hemma och utomlands med högkvalitativa och kostnadseffektiva målprodukter av metall eller legering som t.exnickelmål, krommål, molybdenmål, volframmål,Sputtermål i titan aluminium,etc.
1.Renhet
För alla metaller är renhet en av de viktigaste prestandaindikatorerna för målmaterialet. Renheten hos målmaterialet har stor inverkan på filmens prestanda. Beroende på den faktiska appliceringsutrustningen är dock renhetskraven för målmaterialet också olika. Till exempel krävs beläggningsmål med hög renhet i elektronisk utrustning med hög precision.
2. Orenhetsinnehåll
Efter en serie målprocesser är föroreningar i målfastämnet och syre och vattenånga i porerna de huvudsakliga föroreningskällorna för avsatta filmer. Eftersom deras användningsområden är olika har mål för olika användningar också olika krav på olika föroreningshalter. Till exempel har de nuvarande målen av rena aluminium och aluminiumlegeringar som används i halvledare särskilda krav på innehåll av alkalimetall och innehåll av radioaktiva grundämnen.
3. Densitet
I målteknologiprocessen, för att reducera porerna i målfastämnet och förbättra prestandan hos den förstoftade filmen, krävs det i allmänhet att målmaterialet måste ha en högre densitet. Eftersom målets huvudsakliga karaktäristiska densitet har stor inverkan på sputterhastigheten och påverkar filmens elektriska och optiska egenskaper. Ju högre måltäthet, desto bättre prestanda har filmen.
4. Kornstorlek och kornstorleksfördelning
Vanligtvis har målmaterialet en polykristallin struktur och kornstorleken kan variera från mikron till millimeter. För samma målmaterial är förstoftningshastigheten för ett mål med fina korn högre än för ett mål med grova korn; medan ett mål med en mindre kornstorleksskillnad (likformig fördelning) kommer att ha en mer enhetlig tjockleksfördelning av filmen som avsatts genom sputtering.
