Titan Ti Sputtering Target
Titanium Ti Sputtering Target Beskrivning
Under de senaste åren, med den snabba utvecklingen av mitt lands integrerade kretsar, platta displayer, solenergi och andra industrier, har efterfrågan på metallmål som används i sputterprocessen ökat snabbt, ochTitan Ti Sputtering Targetär en mycket viktig funktionsfilm inom området elektroniskt informationsmaterial. Titan har bra korrosionsbeständighet och vidhäftning, såTitan Ti Sputtering Targetanvänds ofta för sputtringsavsättning av ren titanfilm eller reaktiv sputtringsavsättning av TiN-film, huvudsakligen använd som ett diffusionsbarriärskikt sammankopplat med aluminium och sammankopplat med koppar. Ett hårt maskskikt, ett täckskikt för att skydda nickel-platina-filmskiktet och ett antireflexskikt. Titanium Ti Sputtering Target som tillhandahålls av vårt företag har hög renhet, bland vilka 99,95 procent, 99,99 procent och 99,995 procent högrenhetsmål kan produceras, och har också klarat strikta kvalitetsinspektioner, så att du kan beställa våra produkter med tillförsikt.
Titanium Ti Sputtering Target Specifikationer:
|
Kvalitet |
Betyg 1-4 |
|
Metod |
Sintring, Smide, Glödgning, Valsning, Vakuumsmältning, Bearbetning |
|
Renhet |
99,9 procent -99,995 procent |
|
Diameter |
<350mm |
|
Tjocklek |
1-100mm |
|
Storlek |
Rectangle (Length 1800mm, Width 400mm Thickness>1 mm) Rör (roterande mål, OD:20mm-160mm, tjocklek:2-20mm) |
|
Densitet |
4,54 g/cm3 |
|
Yta |
Polering, ljus, kemisk rengöring, svartoxid, etc. |
|
Form |
Skiva, Plåt, Rektangulär, Fyrkantig |
|
Standard |
ASTM B385,GB |
|
Certifiering |
ISO9001 |
Titanium Ti Sputtering Target Bilder:
Populära Taggar: titan ti sputtering mål, leverantörer, tillverkare, fabrik, anpassade, grossist, pris, offert, till salu
Skicka förfrågan
