+8613140018814
Yttrium aluminiumoxid sputtrande mål
video
Yttrium aluminiumoxid sputtrande mål

Yttrium aluminiumoxid sputtrande mål

YTTRIUM ALUMINIUM OXIDE SPUTNING -mål är ett slags keramiskt mål tillverkat av yttriumoxid och aluminiumoxid genom en specifik process. De används ofta i optiska instrument, elektroniska halvledare, flyg-, mekanisk bearbetning och andra fält för att förbereda tunnfilmbeläggningar med hög ljusöverföring, hög konduktivitet, slitmotstånd, isolering och andra egenskaper. Vi kan också tillhandahålla titanaluminium, aluminiumkisel, rent krom, rent zirkonium och andra legeringsmål. Om du har några frågor om den här produktens detaljer eller leveranstid, tveka inte att komma i kontakt med oss ​​på admin@fanmetalloy.com. Vi ser fram emot ditt meddelande.
Skicka förfrågan
Product Details ofYttrium aluminiumoxid sputtrande mål

YTTRIUM ALUMINIUM OXIDE SPUTNING MÅL BESKRIVNING

Materialval och bearbetning

Beredning av YAG -pulver med hög renhet - Kall isostatisk pressning - Vakuum sintring - skärning - slipning och polering - kvalitetskontroll.

Under bearbetningen bör uppmärksamhet ägnas åt renhet, föroreningsinnehåll, enhetlighet i partikelstorleksfördelning, lämplig kristallform och bearbetningsnoggrannhet, vilket kommer att påverka målets slutliga prestanda och kvalitet.

Egenskaper

Den enda stabila kristallstrukturen är gynnsam för bildandet av en enhetlig, tät och välkristallin film på underlaget.

Utmärkta optiska egenskaper, god ljusöverföring, koefficient med låg ljusabsorption och förlust av svagt ljus.

Hög hårdhet, inte lätt att deformera, stark slitmotstånd och lång livslängd

God konduktivitet och kemisk stabilitet, lämplig för en mängd olika sputteringsprocesser och beläggningsmiljöer.

Ansökan

YTTRIUM ALUMINIUM OXIDE SPUTNING -mål kan användas i stor utsträckning i optisk beläggning, halvledarintegrerade kretsar, plattpanelens skärmbeläggning, magnetisk lagring, ytbehandling av flyg- och rymddelar, bearbetningsverktygsbeläggning, ytmodifiering av medicintekniska produkter och andra fält.

1. Det kan användas för att förbereda olika optiska filmer som anti-reflektionsfilm och reflekterande film, som tillämpas på optiska instrument som optiska linser, teleskop, mikroskop, etc. för att förbättra bildkvaliteten och prestandan för optiska system.

2. Det används för att avsätta isolerande funktionella filmer i integrerade kretsar, vilket hjälper till att förbättra chipsens integration och tillförlitlighet, säkerställa isoleringsprestanda mellan kretsar och noggrannheten för signalöverföring.

3. Det kan användas för att förbereda anti-interferensfilmer för magneto-optiska lagringsmedier, vilket kan förbättra lagringstätheten och säkerställa hastigheten och stabiliteten i dataöverföring.

4. Högpresterande filmer kan förbättra hårdheten, slitmotståndet, korrosionsmotståndet och termisk stabilitet hos flygmotorns komponenter, förlänga komponenternas livslängd och säkerställa tillförlitlighet och säkerhet i extrema miljöer.

 

Yttrium aluminium oxid sputtering mål dimension

Kvalitet

Y3AL5O12

Renhet

99.9%-99.999%‌

Mohs hårdhet

8-8.5

Diameter

60mm -150 mm eller anpassad

Tjocklek

3-6 mm +2 mm

Densitet

4,56 g/cm3

Form

Runda

Leveranstid

15-20 dagar

Certifiering

ISO 9001

Yttrium aluminiumoxid sputtering riktar sig till bilder

YAG Sputtering Targets

Yttrium Aluminum Oxide Sputtering Targets

Populära Taggar: YTTRIUM ALUMINIUM OXIDE SPUTNING -mål, leverantörer, tillverkare, fabrik, anpassad, grossist, pris, offert, till salu

Skicka förfrågan

(0/10)

clearall