Beläggningsmålet är en förstoftningskälla som bildar olika funktionella filmer på substratet genom förstoftning under lämpliga processförhållanden genom magnetronförstoftning, flerbågsjonplätering eller andra typer av beläggningssystem. Våra handelsrelationer med kunder i Singapore kommer närmare och närmare. I början av februari sa de att de hade fått våra Boron Round Sputter Target-produkter och berömde bearbetningskvaliteten och leveranshastigheten. Vi hade en detaljerad diskussion om beställningsdetaljerna för produkten innan leverans. De två parterna nådde smidigt enighet och etablerade en mycket god samarbetsrelation. FANMETAL har alltid varit engagerad i att tillhandahålla högkvalitativa icke-järnmetallprodukter och har fortsatt att förbättra sin produktionsteknik och serviceinställning. Du kan beställa våra produkter med tillförsikt.
99,5% Boron Sputtering Targets är ett material som används för tunnfilmsberedning. Den är gjord av boridmaterial genom pulvermetallurgisk process (pressning av metallpulver under hög temperatur och högt tryck) eller vakuumbågsmältningsmetod (värmer upp det med båge i en vakuumkammare). Smält och sedan stelnat på målet), har det utmärkta egenskaper såsom hög bearbetningsprestanda, hög termisk stabilitet, hög densitet, bra korrosionsbeständighet, hög mekanisk hållfasthet, hög beläggningskvalitet, slitstyrka och lång livslängd. Boron Sputtering Target används främst för att förbereda olika funktionella filmer, såsom hårda beläggningar, magnetiska filmer, optiska filmer, antireflekterande filmer, etc., för sputtering på elektronisk utrustning, halvledarchips, solceller, optiska enheter och andra avancerade dekorativa produkter väntar.
